据了解，蒸镀氧化硅类型的隔断性缠绕膜的制作方法，有物理蒸镀（PVC）和化学蒸镀（CVC）两个大类。根据具体实施方法的不同，又有种种不同的方法。本文临朐县益泰兴塑料制品加工厂小编为大家解析其中物理蒸镀（PVC）的方法过程：

　　物理蒸镀也可称之为物理气相沉积法，其包括了电阻丝蒸镀、电子束蒸镀与溅射等等。其中电阻蒸镀与电子束蒸镀需要在高温状态下使 SIO气化。而溅射沉积运用单元素靶材进行溅射，有着沉积温度较低，沉积速率高，靶材不受限制，镀膜质量良好的优点。

　　1、电阻丝蒸镀法：

　　电阻丝蒸发镀法是在真空室之中，用电阻丝加热S0，温度可达1700℃，高温及真空使 SIO2的以原子或分子的形态从其表面气化逸出，形成蒸气流，此蒸气流在素材的表面沉积，形成了含SIOX镀层的隔断式机用缠绕膜。

　　2、电子束蒸发镀膜的方法：

　　该法是将SI0，放入到水冷铜堆锅之中，直接用电子束进行加热，使其蒸发气化，而后凝结在基材的表面上形成含SIOX镀层的隔断性包装缠绕膜。电子束轰击了热源的束流，其密度高，能够获得比电阻加热源还大的能量密度，蒸发的温度较高（电子束加热的能量约达20KW/CM2，温度更可达3000-6000℃），因而相当适合制作高熔点缠绕膜类材料和高纯缠绕膜材料，而且有相当高的蒸发速度。由于热量可以直接加入到蒸镀材料的表面，因而热效率高，热传导与热辐射的损失少，所生产的SIOX隔断性机用缠绕膜的隔断性，较之电阻丝蒸镀法生产的产品，也有显明提高。

　　3、溅射法：

　　溅射法亦称磁控溅射法或高速低温溅射法。

　　用单元素靶材溅射并通入反应气体，进行的反应称之为反应溅射，经过调节沉积的工艺参数，可制备化学配比或非化学配比的化合物缠绕膜，从而达到调节了缠绕膜镀层的构成以调控机用缠绕膜性能的目的。磁控溅射法和蒸发法进行比较，有着镀膜层和基材的结合力强，镀膜层致密、均匀等优点。磁控溅射的其它优点有设备简单，操作方便等等，在溅射镀膜的过程之中，只要保持工作气压与溅射功率的恒定，基本便可获得较为稳定的沉积速率。磁控溅射的较大缺点是沉积的速率较低，此外可能会发生靶的损害，引起的打火和溅射过程不稳定及膜缺陷等等，这些问题制约了它的实际运用，尚有待进一步改进。